微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)：ARDIS 300
微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)：ARDIS 300適合于多晶，單晶和納米晶金剛石薄膜制備，以及納米管，納米線制備，鍍膜，研究和生產(chǎn)。操作的基本原理是由微波放電形成的等離子體沉積合成金剛石。
ARDIS 300技術(shù)參數(shù)：
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MW功率 |
6 千瓦@2.45 GHz |
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反應(yīng)氣體 |
可達(dá)5種， H2 – 1000 sccm |
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氣處理壓力 |
20-500 Torr |
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樣品尺寸 |
可達(dá)100 mm (4″) |
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基低溫度 |
可達(dá)1200°C |
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生長率 |
6mkm/小時(多晶)100mkm/小時(單晶)， 1mkm=1μm |
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可視窗口 |
5個70mm CF石英窗口 |
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真空腔 |
水冷真空不銹鋼腔 |
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附加選項 |
Z偏移，雙光束高溫計，直流偏置 |
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操作系統(tǒng) |
Windows操作系統(tǒng)，合成過程由Control Ardis程序控制 |
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尺寸 |
1660x 880x 1840(mm)，長x寬x高 |
ARDIS 300主要特點：
6 千瓦，2.45 GHz
可移動載物臺 50 mm
小泄漏 < 10-9 torr·l/s
高真空 < 10-7 torr
純度非常高
單個集成模塊，方便進行維修和維護
ARDIS 300制備金剛石過程：
1） 將氫氣和碳?xì)浠衔锏幕旌衔锛尤氲角皇抑?。通常使用百分之幾的甲烷?/span>
2） 氣體被強大的微波輻射電離，產(chǎn)生等離子體。
3） 等離子體產(chǎn)物，特別是原子氫和烴基，與基底表面相互作用。
4） 根據(jù)基底的選擇和生長模式，可以生長各種各樣的金剛石材料。典型工藝使用1000℃以上的溫度和金剛石基底外延生長單晶金剛石。多晶金剛石和金剛石鍍膜通常在700℃以上的硅基底上生長。
ARDIS 300利用耐熱和化學(xué)穩(wěn)定的材料，如鉬，以及對參數(shù)和等離子體的精確控制，以實現(xiàn)數(shù)百小時的穩(wěn)定和可重復(fù)的生長條件。
ARDIS 300應(yīng)用：
電子學(xué)：半導(dǎo)體、微電子器件熱沉，聲學(xué)電子器件，MEMS，傳感器，MW場效益晶體管
光學(xué)：高功率紅外窗口器件，腐蝕性環(huán)境光學(xué)窗口器件，拉曼激光器
MW器件：超高功率振動陀螺和調(diào)速管窗片，非吸收輻射元件
醫(yī)學(xué)、生態(tài)學(xué)：生物傳感器，生物相容性涂層，用于水清潔電解的耐腐蝕電極（摻雜B和N的金剛石）
工具：鉆石和寶石鍍膜
相關(guān)圖片：
CVD工藝示意圖
金剛石薄膜的微觀結(jié)構(gòu)
ARDIS 300應(yīng)用
關(guān)于OptoSystems公司：
OptoSystems雇員超過40人，最重要的產(chǎn)品是準(zhǔn)分子激光器。同時OptoSystems公司還開發(fā)出準(zhǔn)分子激光器視力屈光矯正系統(tǒng)（LASIK），該系統(tǒng)已經(jīng)獲得中國政府頒發(fā)的銷售許可證，并有數(shù)臺已經(jīng)在中國安裝。OptoSystems公司的產(chǎn)品線還包括脈沖CO2激光器，YAG激光器等。
資料下載：
ARDIS 300
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